氧等离子体是指在等离子体室中也使用氧气的任何等离子体清洁工艺。氧气也用于粘合前进行的清洁过程。氧气也可以与其他气体结合以蚀刻表面。

　　说氧气是等离子清洗中最常用的气体并没有错。这主要是由于其广泛的可用性和低成本。氧等离子体可以通过在等离子体系统上使用氧源来产生。

　　此外，所有可用于等离子蚀刻的系统都可以使用氧气，因为它通常用于清洁玻璃、聚四氟乙烯和塑料等非金属表面，还可以增加非金属表面的润湿性。

　　等离子清洗成本

　　与其他类型的材料表面清洁系统相比，等离子清洁设备的成本相对便宜。除此之外，设备年度维护的成本也可以忽略不计，这就是为什么等离子清洗多年来显着增长的原因。

　　等离子清洗被认为是一种有效且易于使用的方法，可以实现比传统清洗工艺更好的清洗效果。

　　等离子清洁应在需要清洁和可靠表面的地方进行。与传统的湿化学清洗程序相比，等离子清洗不仅简单安全，而且对环境友好，而且更有效。

　　等离子清洗应用

　　等离子清洗系统可用于处理前的各种表面清洗目的。它对去除表面氧化和清除表面的矿物残留物非常有效。

　　它还用于处理塑料和弹性体的表面，以及清洁陶瓷。它还用于清洁玻璃表面以及金属表面。

　　使用高效的等离子清洗系统无需使用化学溶剂。使用等离子清洗的一个主要好处是整个过程对操作员友好且对环境友好。

　　除此之外，使用等离子清洁系统的运营成本很低，同时提供最高质量的清洁表面。使用等离子清洗系统的另一个好处是它无需使用化学溶剂。

　　因此，使用等离子清洗无需存储设施或安排溶剂废物处理。等离子是一种经过验证且有效的关键表面制备方法。